在光刻機領域內，ASML是繞不開的話題，原因是ASML研發製造的光刻機最先進，尤其是EUV光刻機，目前僅有ASML能夠研發製造。

最主要的是，EUV光刻機是生產製造7nm以下晶片的必要裝置，從其被研發製造出來那一刻開始，EUV光刻機就供不應求，至今還積壓了幾十億歐元的訂單。

在這樣的情況下，ASML一邊提升EUV光刻機的產能，預計今後兩年生產製造115臺EUV光刻機，一邊研發製造全新一代EUV光刻機，其就是NA值為0。55的EUV光刻機。

19億元！1nm！ASML全新光刻機資訊一應俱全

據悉，目前ASML正在研發製造全新一代EUV光刻機，其被命名為NA EUV光刻機，而NA更是高達0。55，相比現有的NA值為0。33的EUV光刻機而言，有明顯的提升。

當然，全新一代光刻機的NA值提升，意味著光刻機精度更高，可以生產製造更小面積的晶片，甚至可達1nm。

要知道，臺積電、三星都計劃在2024年量產2nm製程的晶片，而ASML全新一代EUV光刻機也計劃在2023年交付廠商研發測試，2024年規模量產。

這意味著ASML的全新一代光刻機至少能夠將芯片面積縮小到1nm，否則，僅用於生產3nm、2nm等製程晶片，實在是有點浪費。

另外，ASML全新一代光刻機的精度提升了，其工作效率也將隨之提升。目前，升級版的EUV光刻機，每小時能夠曝光晶圓大約是170片12寸晶圓。

也就是說，2024年量產的全新一代NA EUV光刻機，但在單位時間裡自然能夠曝光更多12寸晶圓，晶片生產製造速度自然也隨之增快。

不過，全新一代NA EUV光刻機的精度和生產效率等都得到了提升，這意味其工藝更復雜，成本也更高了。

訊息稱，全新一代EUV光刻機的體積將會更大，高度都將挨著屋頂，運輸起來自然也要比現有的EUV光刻機需要更多卡車等裝置。

關鍵是，其價格也將幅度上漲，現有的EUV光刻機的售價在1億多美元，而新一代NA EUV光刻機的手機將會高達3億美元，摺合人民幣19億元左右。

還有一點，ASML已經將升級版的EUV光刻機優先給了英特爾，而英特爾也表示將會努力優先拿到了全新一代NA EUV光刻機。

因為英特爾是ASML的大股東之一，再加上，英特爾已經制定了晶片目標，並獲得了IBM的2nm晶片生產製造技術，這些都需要最先進的光刻機來實現。

或改變

自由

出貨結果

都知道，ASML的EUV光刻機是不能自由出貨的，即便是ASML多次爭取，但日前還是表示，EUV光刻機暫時無法自由出貨。

不僅如此，EUV光刻機出貨安裝到外企中國分廠也受到了阻礙，不過，韓國晶片巨頭SK正在積極爭取為中國工廠引進EUV光刻機，並表示目前進展順利。

如今，ASML的全新一代光刻機傳來新訊息，不僅精度和效率得到了提升，關鍵是，將會在2023年交付廠商研發測試，這或將改變出貨自由結果。

因為EUV光刻機是當下最先進的光刻機，這是其不能自由出貨的主因，而全新的NA EUV光刻機交付後，現有的EUV光刻機就不再是最先進的光刻機。

另外，各大晶片廠商都在加速購買EUV光刻機，無論是處理器晶片還是儲存晶片都在普及EUV工藝，而ASML也想方設法提升EUV光刻機的產能。

也就是說，NA EUV光刻機在2023年交付測試時，EUV工藝可能就已經普遍，再限制EUV光刻機自由出貨也沒有多大實際意義了。

所以才說NA EUV光刻機交付後，或改變自由出貨結果。對此，你們怎麼看，歡迎留言、點贊、分享。